einstein (São Paulo). 14/fev/2019;17(1):eRW4456.

Recentes avanços dos hidróxidos duplos lamelares aplicados à fotoproteção

Tamires Andrade da Silva ORCID logo , Tamares Andrade da Silva ORCID logo , Ticiano Gomes do Nascimento ORCID logo , Rebeca Evahides Yatsuzuka ORCID logo , Luciano Aparecido Meireles Grillo ORCID logo , Camila Braga Dornelas ORCID logo

DOI: 10.31744/einstein_journal/2019RW4456

RESUMO

Os hidróxidos duplos lamelares vêm ganhando maior atenção de pesquisadores, em decorrência da gama de aplicações, da facilidade de síntese e do baixo custo de produção. Com o crescente conhecimento sobre diversos efeitos da radiação solar sobre o organismo, a utilização de fotoprotetores tem se tornado indispensável. A capacidade de nanoestruturas, como os hidróxidos duplos lamelares, atuarem como matrizes possibilitou melhorias nas formulações fotoprotetoras, tendo em vista os problemas provocados pela radiação, bem como por alguns filtros solares. Este artigo de revisão reúne os avanços mais recentes destas argilas, os hidróxidos duplos lamelares, aplicados à fotoproteção.

Recentes avanços dos hidróxidos duplos lamelares aplicados à fotoproteção

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